出展者情報

V-83

アリオス株式会社

VACUUM真空展
求む! 研究開発及び生産のための真空装置ユーザー 既存真空装置の改良を望む真空装置ユーザー
特許技術を使用した単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置。2µm/hでダイヤモンドを成長させることが可能です。

出展分野

真空装置

出展内容

単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置

本製品は金沢大学様ご協力のもと、今までに無い高速成長を実現することが出来ました。
コンパクトかつ、省電力でありながら、効率良くダイヤモンド成長実験を行う事が可能です。
また、ご要望の実験に応じて、様々な構成にてご提案可能です。
例えば、ドープ室とUnドープ室を設けたマルチチャンバー構成、ポイントプラズマチャンバーとドッキングした複合構成、
ハイパワー高速成長を主目的としたバッチ式水冷アルミチャンバー構成等がございます。
ご要望仕様に応じた構成にてご提案致します。

また、弊社ではダイヤモンド成長装置だけではなく、ダイヤモンド基板に成膜させる装置も製作致します。
小さなダイヤモンド基板はフェイスダウンでの設置が難しく、フェイスアップとすることが多いかと思いますが、
アリオスではフェイスアップのダイヤモンド基板にもSi等を成膜させる装置をご提供致します。
詳しくは展示員あるいは本社までお問い合わせ下さい。


出展者情報

アリオスは昨年創立45周年を迎えました。真空装置の設計、製作に携わり、これまで続けてこられたのも、ひとえに皆様のご協力があってこそとなります。まずは感謝申しあげます。

そんなアリオスでは、お客様のご要望、考えを取り入れ、具現化致します。研究開発向けに、一からこんな装置を作りたいというお話しから、既存の装置では少し物足りないので何とかして欲しいといったお話しや、こんなコンポーネントがあるといいなというお話しも、全てアリオスにご相談下さい。経験豊かなスタッフが、お客様にとって最適なご提案を致します。
各種成膜・クリーニング・表面処理装置(EB蒸着、抵抗加熱蒸着、イオンアシスト、プラズマアシスト、AIP、DC/RFスパッタ、熱CVD、RFプラズマCVD、マイクロ波プラズマCVD、MBE、ALD、PEALD等)、ダイヤモンド(プラズマ・熱フィラメント)CVD装置、DLC成膜装置、真空加熱・アニール装置、超高真空装置、極低温装置、真空乾燥装置、スペースチャンバー、トライボロジー試験機、等々様々な製作実績がお客様の実験、研究開発のお手伝いを致します。
アリオスでは機械設計から電気設計、ソフト設計、組立まで全て社内で行えます。また、社内でシミュレーションソフトを用いて、設計を最適化、反映させます。

装置だけではなく、各種コンポーネント、単体のプラズマ源も製作しております。プラズマ源は高周波RF13.56MHzを利用したもの、マイクロ波2.45GHzを利用したもの、DCを利用したものと、こちらも各種取り扱いがございます。ラジカル源、イオン源と用途に合わせてご利用頂けます。
プラズマを少し使って見たい等あれば、ぜひお気軽にお問い合わせ下さい。



住所 〒196-0021 東京都昭島市武蔵野3-2-20 
部署名 営業技術部
TEL 042-546-4811
URL http://www.arios.co.jp/
メールアドレス info@arios.co.jp
共同出展者