出展者情報

V-80

東京電子株式会社

VACUUM真空展
求む! ・高平滑性、高密着性に優れたハードコーティング、反射防止膜などの機能性薄膜を選りすぐれた成膜にするための手法を求められる方                                                               ・MEMSや封止デバイスの超微量リーク検査を求められる方  
1)アーク異常放電を防止して成膜レートを飛躍的に上げるHiPIMS用パルス電源                                                2)MEMS、封止デバイス

出展分野

真空計測器 / 真空関連部品・材料

出展内容

1)HiPIMS用パルス電源   2)超微量残留ガス分析装置

今回は2つの注目製品を展示します。
【HiPIMS用パルス電源】
高密着性、高硬度、高平滑性が求められるハードコーティング、バリヤ膜、赤外線デバイス等の光の透過を確実にしなければならない反射防止膜などの用途に、スパッタ成膜の手法である HiPIMS(Hi -Power Impulse Magnetron Sputtering)が注目を浴びている。弊社のHiPIMS用パルス電源は、スパッタリングの最大の課題であるアーク異常放電を抑制する機能とHiPIMSの最大の課題である成膜レートを向上させる機能(特許出願済)を備えた他社にはない特長を持った画期的な製品である。
【超微量残留ガス分析装置】
MEMSやライフサイエンスデバイス、あるいは半導体などの封止デバイスには非常に高い信頼性が求められる。その信頼性を担保するにはデバイス内の超微量リーク検査が必須となっている。弊社のWATMASSを中心とした超微量残留ガス分析装置では、リーク量10-16Pa・m3/sの計測が可能であり、この値の検出は世界でも類を見ない性能である。

New! 新製品

出展者情報

“最高位の性能を生み出す最高位の技術”
東京電子の製品群は、成膜用電源、真空計、質量分析計、ゲッターポンプ、真空配管等であり全てが真空装置用のコンポーネント製品、および分析装置である。特筆すべき点は、他社にはない仕様・性能を有していることである。
成膜用電源であれば各種DC電源をはじめとして、スイッチング技術を駆使したパルス電源、短いデューティー比で瞬間的な大電力パルスにより高密度のプラズマを発生させる HiPIMS (Hi -Power Impulse Magnetron Sputtering:大電力パルスマグネトロンスパッタリング)用電源など、特殊技術で高機能な成膜を実現する製品をそろえている。
真空計測製品であれば、真空装置向けフルレンジゲージ、また極高真空領域の製品としては、10-12Paまで計測可能な 3BG
、超低ガス放出質量分析計 WATMASS、極高真空 (XHV) 領域まで排気能力を拡張させた新しい構想のゲッターポンプマジック NEG、到達真空が1桁良くなる魔法のニップル、これらの製品を組み合わせて製作する10-16Pa・m3/s の超微量残留ガス分析装置などのラインナップをそろえている。これら最高位の性能を実現させる技術の一つは、低輻射/高熱伝導の0.2 BeをCuに混合した合金で自らのアウトガスを極限までカットすることで極高真空状態を生み出す計測を可能としている。
東京電子は、今までに無い最高位の技術により生み出された、最高位の性能でお客様の “こうしたい” を実現する。 



住所 〒185-0012 東京都国分寺市本町2-22-7 
部署名 営業部
TEL 042-329-5090
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メールアドレス sales@toel.co.jp
共同出展者